设备特点：
1. 具备g6 amoled湿法刻蚀设备所有特征
2. 具备g6 amoled湿法刻蚀设备所有工艺能力
3. 允许双半片同进同出或单半片进出模式
4. 半片单独刻蚀系统，双系统所有参数独立，防止交叉影响
5. 半片单独数据管理功能，可自动合并或分离前后半片所有数据，便于管理
6. 半片单独工艺管理功能，确保工艺条件一致
7. 半片自动控距功能，防止叠片
8. 半片模式自动合并，便于与下游设备对接
9. 配置了纯水除静电系统，杜绝电化学腐蚀现象
10. 配置了环境除静电系统，保证了产品表面静电影响
11. 具备快速清洗能力，防止刻蚀不良
12. 配置高性能清洗模块
